2022-06-29 拓墣產業研究院

光罩工作原理

圖表資料 IC製造與封測中國半導體

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摘要

光罩(Photomask)又稱掩膜版、光掩膜等，是微電子製造過程中的圖形轉移工具或母版，是承載圖形設計和工藝技術等智慧財產權資訊的載體。光罩品質的優劣將直接影響光刻品質，通常1片晶圓所需電路圖樣要由15～30片以上光罩堆疊而成。光罩廣泛應用於半導體、面板與印刷電路板，其中半導體光罩份額約60%，製作難度也最高，本篇報告重點敘述用於半導體製程的光罩情況。

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