極紫外光EUV發展性之研析
摘要
早期從有線電話和黑金剛演進至現今的多功能智慧型手機,半導體技術發展扮演舉足輕重的角色,晶片內電路線寬能持續微縮,仰賴的是精密的儀器設備。半導體製程中,黃光製程可謂關鍵中的關鍵,黃光設備的進步使線寬CD(Critical Dimension)可達1Xnm;然而10nm以下,浸潤式曝光機亦將面臨瓶頸,EUV曝光機的導入將成為趨勢,本篇研究報告將探討EUV發展性和對市場的影響。
早期從有線電話和黑金剛演進至現今的多功能智慧型手機,半導體技術發展扮演舉足輕重的角色,晶片內電路線寬能持續微縮,仰賴的是精密的儀器設備。半導體製程中,黃光製程可謂關鍵中的關鍵,黃光設備的進步使線寬CD(Critical Dimension)可達1Xnm;然而10nm以下,浸潤式曝光機亦將面臨瓶頸,EUV曝光機的導入將成為趨勢,本篇研究報告將探討EUV發展性和對市場的影響。
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